市場の定義
集積回路（IC）などの半導体デバイスの製造に使用される技術で、半導体ウェハーにイオンと呼ばれる電荷を帯びた原子または分子を正確に挿入し、電気的特性を変化させる。

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イオン注入装置の市場セグメント
イオン注入装置のさまざまな市場カテゴリーにおけるビジネスチャンスと需要を明らかにするため、調査を実施した。 同市場は、アプリケーション、技術、用途に基づいてセグメント分けされている。

イオン注入装置の市場は、技術に基づき、高電流、中電流、高エネルギーの3つのセグメントに分けられる。 高電流イオン注入装置では、一定時間内に比較的多くのイオンを供給することができる。 高いスループットが要求される半導体製造アプリケーションでは、この能力が役立ちます。 大電流インプランターに比べ、中電流インプランターは比較的低いビーム電流で、適度なドーズ量のイオンを供給することができます。

高エネルギー注入装置と呼ばれる特殊な装置は、半導体の製造において、シリコンウェーハにドーパント原子を注入するために使用される。 コンピューター、携帯電話、その他の家電製品は、これらの装置で製造された集積回路（IC）によって動いている。 最大の市場シェアは33％で、大電流イオン注入装置が占めている。 当社の分析では、大電流イオン注入装置市場は2022年から2030年まで年平均成長率（CAGR）4.5％で拡大すると予測している。 世界的な半導体および金属仕上げ用途の増加が需要増加の原因である。

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競争環境
Amtech Systems Inc.、Acxelis Technologies Inc.、Invetac Inc.、Idonus Sarl、Solvay Inc.などが世界のイオン注入装置市場をリードする企業である。 加えて、住友重機械工業、センス株式会社、日新イオン機器株式会社、株式会社イオンテクノロジーセンター、Acxelis Technologies Inc. Ltd.、Ion Technology Centre Co.Ltd.、Ulvac Inc.などが日本市場の上位5社である。 本調査には、世界のイオン注入装置市場におけるこれら主要企業の徹底的な競合分析、会社概要、現在の動向、主要市場戦略がすべて含まれている。

原資料: SDKI アナリティクス